SC200T 高真空磁控溅射镀膜仪，自动完成镀膜全过程，内置常用靶材参数，一键调用，方便快捷。

Name: 高真空磁控溅射镀膜仪SC200T
Brand: 乐研品牌
Availability: InStock

产品型号：SC200T

更新时间：2026-08-27

厂商性质：生产厂家

访问量：60

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产品分类Product Categories

品牌	乐研品牌	价格区间	面议
产地类别	国产	应用领域	综合

SC200T 高真空磁控溅射镀膜仪：

一键式操作

自动完成镀膜全过程

内置常用靶材参数

一键调用，方便快捷

极限真空优于5E-3Pa

满足大部分场景需求

一体成型真空室

更优真空性能

配备防污染系统

提高样品镀膜效果

镀膜过程样品温升少

适用范围更广

SC200T 高真空磁控溅射镀膜仪主要参数
外形尺寸	278(L)×494(H)×467(D) mm	溅射靶头	平面磁控冷溅射靶头
靶材尺寸	Φ50mm，厚度支持0.1-4mm	可用靶材	所有金属、导电材料等靶材
工作电流	1-200mA可调（步长：1mA）	镀膜时间	1-9999s可调（步长：1s）
真空泵	旋片泵（可选干泵）+分子泵	主真空泵抽速	90L/s
真空室	170(L)×150(H)×163.5(D) mm 一体加工金属腔室	极限真空	≤5×10-3Pa
工作介质	高纯氩气	工作真空	0.3-2Pa可调
供电	AC220V/50Hz	额定功率	＜800W
预溅射	全自动预溅射清洁功能，配合预溅射挡板，防止样品污染、提高镀膜纯度
样品台	Φ120mm，支持旋转、升降功能
其它	真空度、工作电流可实时曲线显示
选配功能	膜厚仪、样品台加热