辉光放电仪两大类：电镜样品前处理辉光放电仪（TEM / 冷冻电镜用）、辉光放电光谱 / 质谱仪（GD-OES / GD-MS）

一、TEM / 冷冻电镜用辉光放电仪（等离子表面改性仪，电镜室最常见）

核心：低压等离子体改性载网表面，不做元素分析

1. 载网亲水化（常用）碳膜铜网表面引入含氧极性基团，提高表面能；水溶液样品（蛋白、病毒、核酸、纳米颗粒）均匀铺展，减少团聚，冷冻电镜形成均匀薄冰，提升高分辨成像质量；也改善超薄切片捞片、重金属染色均匀度。

2. 载网疏水 / 带正电改性通入乙胺等气体，碳膜变为疏水正电表面，适配油性分散样品、抗体、固定蛋白等生物样品吸附。

3. 等离子体超净清洗清除载网表面有机污染物、碳污染，降低电镜背景噪音；SEM 样品基底清洗、粉末样品分散预处理。

4. 二维材料 / 纳米材料制样石墨烯、MXene、纳米线等在载网上均匀分散，减少褶皱与团聚。

二、辉光放电光谱 GD-OES / 辉光放电质谱 GD-MS（材料元素表征仪器）

核心：氩离子逐层溅射固体样品，块体元素定量 + 薄膜镀层深度剖析HORIBA

✅ 冶金与金属行业

• 钢铁、铝合金、镀锌 / 镀锡板、镍基高温合金、高纯铜、溅射靶材：快速测基体成分、镀层厚度、镀层元素分布、表面氧化层、腐蚀层深度剖析；钢厂、汽车板材质量质控。

✅ 半导体 & 第三代半导体

• 硅片、碳化硅 SiC、氮化镓 GaN、高纯靶材：超痕量杂质检测（ppb 级）；LED 多层外延膜、量子阱、金属化薄膜深度剖析，快速看元素扩散、界面污染，工艺优化。

✅ 新能源

• 锂电池正负极、集流体涂层、固态电解质；光伏电池薄膜、TCO 导电膜，分析薄膜组分梯度、界面元素互扩散，提升电池 / 光伏效率与稳定性。

✅ 涂层、表面工程

PVD/CVD 镀层、硬质涂层、阳极氧化、电镀层；从纳米到百微米深度，逐层测元素分布，评估镀层工艺、老化、失效机理。

✅ 其他

陶瓷、玻璃、高分子材料、地质矿物；GD-MS 可测 H/O/N/C 等轻元素，适合高纯固体材料痕量杂质分析，无需酸消解，直接测固体。

三、其他小众应用（辉光放电等离子体工艺设备）

• 等离子刻蚀、薄膜沉积（早期非晶硅光伏薄膜制备）；

• 材料表面活化、接枝改性，提升粘接、喷涂附着力。

快速区分

• 电镜制样辉光放电仪：改表面润湿性、清洗，生物 / 材料电镜实验室

• GD-OES / GD-MS：测元素成分、深度剖面，工厂质检、材料表征中心