SC200TII高真空双靶磁控溅射镀膜仪，全自动预溅射系统，防止样品污染及组件污染、提高镀膜纯度。

Name: 高真空双靶磁控溅射镀膜仪SC200TII
Brand: 乐研品牌
Availability: InStock

产品型号：SC200TII

更新时间：2026-08-27

厂商性质：生产厂家

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产品分类Product Categories

品牌	乐研品牌	价格区间	面议
产地类别	国产	应用领域	综合

SC200TII高真空双靶磁控溅射镀膜仪：

单靶溅射、双靶共溅、交替溅射

一键镀膜，全自动操作

可编程自定义多层膜制备参数

多功能样品台

支持旋转、升降及倾斜功能

一体成型真空室

更优真空性能

配备防污染系统

有效保护镀膜组件

进口分子泵

极限真空优于5×10-3Pa

SC200TII高真空双靶磁控溅射镀膜仪主要参数
外形尺寸	278(L)×494(H)×467(D) mm	溅射靶头	双磁控溅射靶头
靶材尺寸	Φ50mm，厚度支持0.1-4mm	可用靶材	所有金属、导电材料等
工作电流	1-200mA可调（步长：1mA）	镀膜时间	1-9999s可调（步长：1s）
真空泵	旋片泵（可选干泵）+分子泵	主真空泵抽速	90L/s
真空室	170(L)×150(H)×163.5(D) mm 一体加工金属腔室	极限真空	≤5×10-3Pa
工作介质	氩气	工作真空	0.5-2Pa可调
供电	AC220V/50Hz	额定功率	＜800W
预溅射	全自动预溅射系统，防止样品污染及组件污染、提高镀膜纯度
样品台	Φ120mm，支持旋转、升降功能
其它	真空度、工作电流可实时曲线显示